低溫等離子處理設(shè)備常應(yīng)用于惡臭氣體治理，具有處理效果好(幾乎可以處理目前常見(jiàn)的各種惡臭氣體)、運(yùn)行費(fèi)用低廉、無(wú)二次污染、運(yùn)行穩(wěn)定操作管理簡(jiǎn)便即開即用等優(yōu)點(diǎn)。該技術(shù)可廣泛應(yīng)用于石油化工、制藥、食品、污水處理廠、涂料、皮革加工、感光材料、汽車制造等諸多行業(yè)有機(jī)廢氣的治理以及采用其它方法很難解決的廢氣的治理。低溫等離子體產(chǎn)生方式主要有兩種放電方式，分別是電暈形式和戒指阻擋形式。根據(jù)處理廢氣的濃度和所含污染物的類型來(lái)選擇合適的放電方式。
 

　　隨著科技的進(jìn)步，低溫等離子處理設(shè)備在現(xiàn)代工業(yè)上高速發(fā)展，選擇它原因也很簡(jiǎn)單，它的操作簡(jiǎn)單、工作效率高、低成本、環(huán)保且去膠后表面光潔。那么，設(shè)備在使用中有哪些因素要注意？
 

　　一、調(diào)整合適的頻率：頻率越高，氧越易電離構(gòu)成等離子體。頻率太高，以致電子振幅比其平均自由程還短，則電子與氣體分子磕碰概率反而減少，使電離率降低。
 

　　二、調(diào)整合適功率：關(guān)于必定量的氣體，功率大，等離子體中的的活性粒子密度也大，去膠速度也快；但當(dāng)功率增大到必定值，反響所能耗費(fèi)的活性離子到達(dá)飽滿，功率再大，去膠速度則無(wú)顯著添加。由于功率大，基片溫度高，所以應(yīng)根據(jù)技術(shù)需求調(diào)理功率。
 

　　三、調(diào)整適合的真空度：恰當(dāng)?shù)恼婵斩?，可使電子運(yùn)動(dòng)的平均自由程變大，因而從電場(chǎng)取得的能量就大，有利電離。別的當(dāng)氧氣流量必守時(shí)，真空度越高，則氧的相對(duì)份額就大，發(fā)生的活性粒子濃度也就大。但若真空度過(guò)高，活性粒子濃度反而會(huì)減小。
 

　　四、氧氣流量的調(diào)整：氧氣流量大，活性粒子密度大，去膠速率加速；但流量太大，則離子的復(fù)合概率增大，電子運(yùn)動(dòng)的平均自由程縮短，電離強(qiáng)度反而降低。若反響室壓力不變，流量增大，則被抽出的氣體量也添加，其間尚沒(méi)參與反響的活性粒子抽出量也隨之添加，因而流量添加對(duì)去膠速率的影響也就不甚顯著。
 

　　關(guān)于低溫等離子處理設(shè)備的介紹就到這里了，希望這篇文章能對(duì)你有所幫助！